1 研究背景和意义
随着光学行业及相关技术领域的不断发展，光学球面面形的加工精度要求越
来越高[1]。近年来特别是国防工业部门对于高精度球面面形的需求越来越高，如
微电子工业分步相机镜头，航天、航空的高空侦察镜头，高分辨率的投影光刻系
统、遥感系统等。然而球面光学元件的表面加工精度受球面光学表面的检测精度
的制约，因此提高球面光学元件的检测精度对于促进国内光学行业的发展具有重
要意义。例如，投影光刻系统的研发技术水平对促进我国半导体及其相关产业发
展和进步非常关键，在投影光刻系统中，投影光刻物镜是用于大规模集成电路制
造的光刻机的关键部件。90nm的分辨率的投影光刻物镜系统是一个包含大口径，
多达三十片光学元件所组成的系统，其中最大口径达到300nm以上，投影光刻物
镜系统RMS(均方根)值要达到3nm的波前检测精度，那么光刻物镜系统的主
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